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明场纳米图形晶圆缺陷检测设备(921系列)

CFW921是一款高规格的FAB前道纳米图形检测设备,可对标国外竞品Kxx的机台,它配备了双TDI传感器,可实现明暗场同步成像,一次扫描可同时采集检测明场和暗场的图像,可扫描检出更多的瑕疵,它适用于FAB前道的ADI/AEI/CMP等多个工艺站。

它可满足瑕疵高灵敏度和高检出率的应用场合。


CFW921

具体参数/规格

√ 传感器:TDI

√ 光路:明暗场同步成像

√ 物镜倍率:5X/10X/20X

√ 分辨率(BF):0.2um

√ 分辨率(DF):0.15um