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CFW920是一款用于FAB前段工艺控制的光学检测设备，应用在ADI/AEI/CMP等多个工艺站，助力客户发现工艺研发阶段和产能提升阶段影响良率的关键图形缺陷，提升良率。CFW920拥有最高达200nm的缺陷灵敏度，双通道检测吞吐率，灵活易用的recipe管理功能，以及基于深度学习的ADC算法，帮助客户产线快速进入HVM阶段。
CFW920 | |
应用场景 | ADI/AEI/POST CMP |
设备功能 | √ 兼顾高吞吐率-双通道检测 |
√ Sensitivity and throughput对标国外友商 | |
√ ADC自动缺陷分类-基于深度学习算法 | |
√ Recipe支持多个检测区,可设定不同的过滤参数 | |
设备特点 | 发现前段工艺细微缺陷，提升良率 |
具体参数/规格 | √ 传感器：CCD |
√ 光路：明暗场复合 | |
√ 物镜倍率：5X/10X/20X | |
√ 分辨率（BF）：0.2um | |